高性能光电材料废水怎么处理|高性能光电材料废水如何处理
该中小型商家是国产优势的LED集成电路芯片生孩子加工商,生孩子的过程 中所产生丰富含天价属、生产萃取剂及高氧化还原电位高锰酸盐指数的废气净化处理工艺。原因废气净化处理工艺成份更复杂且水空气污染物氧化还原电位高,传统艺术净化处理工艺难标准摆放,中小型商家急求这套高效率的、相对稳定的废气净化处理工艺净化处理系统性。
废液成份及种类
蚀刻废渣
:含铜、镍等高价属铁离子,pH值上下波动大。
有机质废渣
:是来自于光刻胶洁净制作工序,含异丙醇、二甲苯等有机质液体,COD万代高达5000mg/L以内。
氧化还原电位废水处理
:存在电学液相沉积状(CVD)生产技术,高锰酸盐指数质量浓度小于800mg/L。
处里工艺技术步奏
预除理的阶段
的调节池
:稳定水的硬度排水量,抑制突破变压器容量。
无机化学沉淀物中
:加药NaOH调低pH至9-10,使高价属构成氢氧化物质物积累,取除率>95%。
生化学补救的时候
好氧菌硝化作用
:分离大原子巧妙物,提供工业废水可生化模式性。
A/O生产技术
(生物滤池-好氧组成):所采用有效硝化细菌反应-反硝化细菌反应科技,氧化还原电位清理率>98%。
高度外理阶段中
活力性炭吸
:进一大步我们要除存留生产物,确保COD<50mg/L。
膜过虑
(UF+RO):控制焦化废水造纸废水处理,造纸废水处理率>70%。
最后实际效果
喷水饮用水质做到《水量综上产生要求》(GB 8978-1996)三级要求。
血本属水平如果低于0.5mg/L,COD<50mg/L,氯离子<5mg/L。
每一年增多废液用水量下跌量约30万吨,工业废水处理水应用于生产加工线清理多种工序,降低投资成本约1十万元/年。