某半导体芯片制做企业公司因晶圆刷洗步骤形成含氨废水工作工艺，储水量200吨/天。废水工作工艺中除挥发酚外还包含的氟化物和少量血本属，工作一定难度大。内地排放标淮标淮规定挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水有效成分及主要来源 晶圆洗掉电镀废水（重要来源地）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工序污废水 ：含轻微铜、镍等高价属，pH值上下波动大 CMP碾磨污水：含硅颗粒剂及氟化物 外理工艺技术程序流程 选取"化学上的积淀+膜分割+折点氯化"搭档技术： 预工作 ：污泥脱水CaCl2除氟，把控pH在7.5-8. 反渗透装置系统化 ：彻底清除0.01μm上述非甲烷总烃物 反融入萃取 ：将氧化还原电位萃取至1000mg/L以上的 折点氯化 ：精确度的控制氯污泥脱水量，将氧化还原电位应用为N2 阴离子调换 ：保护天价属达到 决定疗效 氯离子不稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属成分不超过探测限 水使用率达75% 活性污泥呈现量增多40%